硅基淺結/超淺結晶圓激光快速退火系統

產品介紹

晶圓獲得極淺的原始雜質離子注入后，采用激光瞬間退火來激活雜質，并精確控制注入離子的峰值深度，保證注入雜質不發生明顯的擴散再分布，獲得合格的超淺結源漏區。